![]() Pressure measuring device for vacuum systems
专利摘要:
Die Erfindung betrifft eine Druckmessvorrichtung für Vakuumanlagen zur Oberflächenbeschichtung oder -modifikation von Gegenständen bzw. Substraten in einem Innenrezipienten innerhalb einer Prozesskammer. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Druckmessvorrichtung für Vakuumanlagen zur Oberflächenbeschichtung oder -modifikation von Gegenständen bzw. Substraten zu schaffen, mit der eine kontinuierliche und sichere Bestimmung des Druckes im Innenrezipienten ermöglicht wird. Erreicht wird das dadurch, dass der Innenrezipient (2) in der Prozesskammer (4) zumindest teilweise definiert elastisch ausgeführt ist und das dem elastischen Bereich (1) des Innerezipienten (2) eine Messeinrichtung in Form einer Abstandsmesseinrichtung (3) zur Messung der Verformung des elastischen Bereiches (1) zugeordnet ist.The invention relates to a pressure measuring device for vacuum systems for surface coating or modification of objects or substrates in an internal recipient within a process chamber. The invention has for its object to provide a pressure measuring device for vacuum systems for surface coating or modification of objects or substrates, with a continuous and reliable determination of the pressure in the inner recipient is made possible. This is achieved by the fact that the inner recipient (2) in the process chamber (4) is at least partially defined elastic and the elastic region (1) of the Innenzipienten (2) a measuring device in the form of a distance measuring device (3) for measuring the deformation of elastic range (1) is assigned. 公开号:DE102004020915A1 申请号:DE200410020915 申请日:2004-04-28 公开日:2005-12-22 发明作者:Hans Reichart;Hans-Peter Dipl.-Ing. Völk;Harald Dr. Wanka 申请人:Centrotherm Photovoltaics AG; IPC主号:H01L21-00
专利说明:
[0001] DieErfindung betrifft eine Druckmessvorrichtung für Vakuumanlagen zur Oberflächenbeschichtungoder Oberflächenmodifikationvon Gegenständenbzw. Substraten in einem Innenrezipienten innerhalb einer Prozesskammer.TheThe invention relates to a pressure measuring device for vacuum systems for surface coatingor surface modificationof objectsor substrates in an inner recipient within a process chamber. [0002] ÜblicherWeise kommen Beschichtungs- oder Bedampfungsreaktoren in einer Prozesskammer,beispielsweise in der Halbleitertechnik zur Beschichtung von Wafernoder anderen Halbleiterstrukturen und sonstigen Substraten zum Einsatz,indem die Substrate, z.B. Wafer nach dem Einbringen in den Innenrezipientenin der Prozesskammer ein fürdas nachfolgende Bearbeitungsverfahren geeigneter Druck durch eineVakuumpumpe erzeugt wird. Der Innenrezipient umschließt den Reaktionsraum.usualWay come coating or vaporization reactors in a process chamber,For example, in semiconductor technology for coating wafersor other semiconductor structures and other substrates are used,by adding the substrates, e.g. Wafer after insertion into the inner recipientin the process chamber a forthe subsequent processing method suitable pressure by aVacuum pump is generated. The inner recipient encloses the reaction space. [0003] Sobaldnach dem Einbringen des zu bearbeitenden Gutes der für den jeweiligenBeschichtungs- oder Bedampfungsprozess jeweils erforderliche Druckim Innerezipienten erreicht worden ist, wird der entsprechende Prozessgestartet.As soon asafter the introduction of the material to be processed for the respectiveCoating or vaporization process respectively required pressurehas been reached in the inner recipient, becomes the corresponding processstarted. [0004] Nachder Bearbeitung der Substrate im Innenrezipienten wird in diesemder normale Umgebungsdruck eingestellt, so dass dieser geöffnet und dasbearbeitete Substrat entnommen werden kann.Tothe processing of the substrates in the inner recipient is in thisset the normal ambient pressure so that this opened and thatmachined substrate can be removed. [0005] Beiden beschriebenen Prozessen, die in Vakuumanlagen mit sogenanntenInnenrezipienten durchgeführtwerden, in denen das eigentliche zu bearbeitende Gut bzw. Substratliegt, stellt die Prozesskontrolle ein erhebliches Problem dar.atthe processes described in vacuum systems with so-calledInternal recipient performedare in which the actual to be processed Good or substrateis the process control is a significant problem. [0006] DieInnenrezipienten sind zum Beispiel erforderlich, wenn die Reaktorkammervon der eigentlichen Reaktion im Reaktionsraum im Innenrezipientengeschütztwerden muss, oder umgekehrt.TheInternal receivers are required, for example, when the reactor chamberfrom the actual reaction in the reaction space in the inner recipientprotectedmust be, or vice versa. [0007] Erfordertdie Trennung auch eine gastechnische Abschirmung, werden sich zwangsläufig unterschiedlicheDruckverhältnisseeinstellen. In solch einem Fall ist eine Druckmessung und somiteine gesteuerte Prozesskontrolle zum Beispiel durch Temperatureinwirkungnicht möglich.Der Grund hierfür liegtdarin, dass der Einbau einer Druckmessröhre in den Innenrezipientenmeist wegen einer unerwünschtenWechselwirkung zwischen dem Prozess und herkömmlichen Druckaufnehmern nichtmöglich ist,oder wenn der Innenrezipient zusammen mit den Substraten innerhalbder Prozesskammer verfahren werden muss.requiresthe separation also a gas shielding, will inevitably be differentpressure conditionsto adjust. In such a case is a pressure measurement and thusa controlled process control, for example by the effect of temperaturenot possible.The reason isin that the installation of a pressure gauge in the inner recipientmostly because of an undesirableInteraction between the process and conventional pressure transducers notis possible,or if the inner recipient along with the substrates withinthe process chamber must be moved. [0008] DerErfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Druckmessvorrichtungfür Vakuumanlagenzur Oberflächenbeschichtungoder -modifikation von Gegenständenbzw. Substraten zu schaffen, mit der eine kontinuierliche und sichereBestimmung des Differenzdruckes zwischen Innenrezipient und Prozesskammerund des Druckes im Innenrezipienten ermöglicht wird.Of theThe invention is therefore based on the object, a pressure measuring devicefor vacuum systemsfor surface coatingor modification of objectsor substrates to create a continuous and safeDetermination of the differential pressure between inner recipient and process chamberand the pressure in the inner recipient is made possible. [0009] Dieder Erfindung zugrunde liegende Aufgabe wird dadurch gelöst, dassder Innenrezipient zumindest teilweise definiert elastisch ausgeführt ist unddass dem elastischen Bereich des Innenrezipienten eine Messeinrichtungzur Messung der Verformung des elastischen Bereiches zugeordnetist.TheThe object underlying the invention is achieved in thatthe inner recipient is at least partially defined elastically executed andthat the elastic region of the inner recipient a measuring deviceassigned to measure the deformation of the elastic regionis. [0010] DieMessung der Verformung des elastischen Bereiches kann bevorzugtdurch Abstandsmessung, beispielsweise mit einem Laser erfolgenTheMeasurement of the deformation of the elastic region may be preferableby distance measurement, for example with a laser [0011] Eineeinfache Variante der Verformungsmessung besteht darin, die Bewegungdes elastischen Bereiches mit einem anderen üblichen Verfahren zur Messung,wie zum Beispiel einem Taster oder einem kapazitiven bzw. induktivenSensor zu messen.Asimple variant of the deformation measurement is the movementthe elastic range with another conventional method of measurement,such as a button or a capacitive or inductiveTo measure sensor. [0012] Stellensich unterschiedliche Druckverhältnisseim Reaktionsraum (im Innenrezipienten) und der äußeren Vakuumkammer ein, kannaus der Verformung der Differenzdruck zwischen Außen- undInnenkammer exakt berechnet werden.Putdifferent pressure conditionsin the reaction space (in the inner recipient) and the outer vacuum chamber, canfrom the deformation of the differential pressure between outside andInner chamber can be calculated exactly. [0013] ImAußenraumkann der Druck durch üblicherDruckmesseinrichtungen bestimmt werden und somit ist auch der bisdahin nicht zugänglicheDruck im Innenrezipienten bekannt.in theouter spacethe pressure can be through usualPressure measuring devices are determined and thus is also the upnot accessiblePressure in the inner recipient known. [0014] DieErfindung soll nachfolgend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden.In den zugehörigenZeichnungsfiguren zeigen:TheInvention will be explained in more detail below using an exemplary embodiment.In the associatedDrawing figures show: [0015] 1:einen schematisch dargestellten Innenrezipienten in einer Prozesskammermit erhöhtemInnendruck gegenüberder Prozesskammer; 1 a schematically illustrated inner recipient in a process chamber with increased internal pressure relative to the process chamber; [0016] 2:einen schematisch dargestellten Innenrezipienten bei Druckausgleich;und 2 : a schematically illustrated inner recipient with pressure equalization; and [0017] 3:einen schematisch dargestellten Innenrezipienten mit geringeremInnendruck gegenüberder Prozesskammer. 3 : a schematically illustrated inner recipient with lower internal pressure relative to the process chamber. [0018] Stellensich unterschiedliche Druckverhältnisseim Innenrezipienten 2 und der diesen umgebenden Prozesskammer 4 ein(1 bis 3) und verfügt der Innenrezipient 2 über einenelastischen Bereich 1, kann aus der Verformung des elastischen Bereiches 1 derDifferenzdruck zwischen der Prozesskammer 4 und dem Innenrezipienten 2 exaktbestimmt werden.Imagine different pressure conditions in the inner recipient 2 and the surrounding process chamber 4 one ( 1 to 3 ) and has the inner recipient 2 over an elastic area 1 , may be from the deformation of the elastic region 1 the differential pressure between the process chamber 4 and the inner recipient 2 exactly be be true. [0019] Inder Prozesskammer 4 kann der aktuelle Druck mittels gängiger Druckmesseinrichtungenbestimmt werden und somit ist dann auch der nicht direkt messbareInnendruck im Innenrezipienten 2 bekannt.In the process chamber 4 the current pressure can be determined by means of common pressure measuring devices and thus is then also the not directly measurable internal pressure in the inner recipient 2 known. [0020] DieVerformungsmessung des elastischen Bereiches 1 erfolgtmit Hilfe einer Abstandsmesseinrichtung 3 mit einem Laseroder auch mit einem mechanischen Taster bzw. einem kapazitiven oderinduktiven Sensor.The deformation measurement of the elastic range 1 done with the help of a distance measuring device 3 with a laser or with a mechanical probe or a capacitive or inductive sensor. 11 elastischerBereichelasticArea 22 InnenrezipientInnenrezipient 33 AbstandsmesseinrichtugAbstandsmesseinrichtug 44 Prozesskammerprocess chamber
权利要求:
Claims (7) [1] Druckmessvorrichtung für Vakuumanlagen zur Oberflächenbeschichtungoder -modifikation von Gegenständenbzw. Substraten in einem Innenrezipienten innerhalb einer Prozesskammer, dadurchgekennzeichnet, dass der Innenrezipient (2) in derProzesskammer (4) zumindest teilweise definiert elastischausgeführtist und dass dem elastischen Bereich (1) des Innenrezipienten(2) eine Messeinrichtung zur Messung der Verformung deselastischen Bereiches (1) zugeordnet ist.Pressure measuring device for vacuum systems for surface coating or modification of objects or substrates in an internal recipient within a process chamber, characterized in that the internal recipient ( 2 ) in the process chamber ( 4 ) is at least partially defined elastically and that the elastic region ( 1 ) of the inner recipient ( 2 ) a measuring device for measuring the deformation of the elastic region ( 1 ) assigned. [2] Druckmesseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,dass fürdie Messung der Verformung des elastischen Bereiches (1)eine Abstandsmesseinrichtung (3) vorgesehen ist.Pressure measuring device according to claim 1, characterized in that for the measurement of the deformation of the elastic region ( 1 ) a distance measuring device ( 3 ) is provided. [3] Druckmesseinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,dass die Abstandsmesseinrichtung (3) mit einem Laser ausgestattetist.Pressure measuring device according to claim 2, characterized in that the distance measuring device ( 3 ) is equipped with a laser. [4] Druckmesseinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,dass die Abstandsmesseinrichtung (3) einen Taster aufweist.Pressure measuring device according to claim 2, characterized in that the distance measuring device ( 3 ) has a button. [5] Druckmesseinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,dass die Abstandsmesseinrichtung (3) einen kapazitivenoder induktiven Sensor aufweist.Pressure measuring device according to claim 2, characterized in that the distance measuring device ( 3 ) has a capacitive or inductive sensor. [6] Druckmesseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis5, dadurch gekennzeichnet, dass sich bei unterschiedlichen Druckverhältnisseim Innenrezipienten (2) und der äußeren Prozesskammer (4) derDifferenzdruck zwischen Außen-und Innenkammer aus der Verformung des elastischen Bereiches (1)bestimmt.Pressure measuring device according to one of claims 1 to 5, characterized in that at different pressure conditions in the inner recipient ( 2 ) and the outer process chamber ( 4 ) the differential pressure between outer and inner chamber from the deformation of the elastic region ( 1 ) certainly. [7] Druckmesseinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis6, dadurch gekennzeichnet, dass für die Bestimmung des Druckesin der Prozesskammer (4) übliche Druckmesseinrichtungen,z.B. Druckmessrohre, vorgesehen sind.Pressure measuring device according to one of claims 1 to 6, characterized in that for the determination of the pressure in the process chamber ( 4 ) conventional pressure measuring devices, such as pressure measuring tubes, are provided.
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同族专利:
公开号 | 公开日 EP1592043A2|2005-11-02| EP1592043A3|2009-07-01| DE102004020915B4|2008-12-11|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
2005-12-22| OP8| Request for examination as to paragraph 44 patent law| 2006-07-20| 8181| Inventor (new situation)|Inventor name: WANKA, HARALD, DR., 89143 BLAUBEUREN, DE Inventor name: VöLK, HANS-PETER, DIPL.-ING., 89608 GRIESINGEN, DE Inventor name: REICHART, HANS, 89134 BLAUSTEIN, DE Inventor name: KEIM, UWE, 72582 GRABENSTETTEN, DE | 2007-01-18| 8127| New person/name/address of the applicant|Owner name: CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS AG, 89143 BLAUBEUREN, DE | 2009-06-04| 8364| No opposition during term of opposition| 2017-11-03| R119| Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee|
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